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_超声—电(sh)化学抛光仿真与研抛实验研I?/h1>

发表于:(x)2023-07-11 来源Q?a href='http://www.uaqtrly.cn/news/129.html'>http://www.uaqtrly.cn/news/129.html

    摘要:_传l的减薄抛光Ҏ(gu)表面质量较差,去除效率很低。超声L—电(sh)化学抛光是结合了(jin)?sh)化学抛光与声波辅助抛光的复合抛光技? 通过实验试h效率高,抛光表面质量好的特点?/span>


    哈尔滨工业大?nbsp;| 孙丙?nbsp;


    _是W三代半g材料,h优良的电(sh)性能与物理化学性能。同?_也是一U超材?h脆性大、对~陷敏感、抗冲击性差、化学惰性极强的特点,因此加工隑ֺ很大。传l的削Ҏ(gu)获得的表面质量较?现行的几U精密抛光方法则去除率很低。超声L—电(sh)化学抛光是结合了(jin)?sh)化学抛光与声波辅助抛光的复合抛光技?在模具加工领域已取得显著的研I成?但目前尚未有该技术应用于_加工的研究。通过对碳化硅声波—电(sh)化学抛光q程的流场、电(sh)Z真分析与实验研究,论文探烦(ch)?jin)该?gu)实现_高效去除的可行?获得?jin)不同工艺参数对研抛效果的?jing)响规?对碳化硅高效精密加工具有重要的理论和指导意义。首先进行流Z真分?针对不同的研抛变?利用Fluent软g建立?jin)三U不同的仿真模型;分别研究声振动、流体膜厚度与抛光垫打孔Ҏ(gu)场的速度、压力与气相分布{特征的影响规律。结果显C?声振动?x)试g表面的流体剧烈变?产生极强的剪切流与高压作?体膜厚度越?研抛表面承受的压力越?剪切越?加工效果好;抛光垫上的小孔会(x)ȝ试g表面的流体流?使流场的压力出现台阶变化,有利用超声空化的产生。然后进行电(sh)场分?利用Ansoft Maxwell软g,分别研究研磨液电(sh)导率、流体膜厚度与试件材料对?sh)场分布的?jing)响规律。结果表??sh)压通过试g时ƈ不击I试件内?而是׃面向下传?随着研磨液电(sh)导率升高,试g表面的电(sh)密度线性增大且效果显著;体膜厚度的变化对试件表面的?sh)场分布影响很?在一定范围内,体膜厚度越?表面甉|高;在相同的仿真模型?_试件在研抛表面的电(sh)密度比铁、铜{良g降低?jin)?0%。最?自主研制声波—电(sh)化学研抛实验?实现声辅助、电(sh)压加载与实时数据采集。通过pd研磨与抛光实?获得?jin)超声辅助、外加电(sh)压与研磨液组分对_摩擦磨损性能的媄(jing)响规律。实验研I表?试g对研抛盘的摩擦系C要取决于研磨液的成分,相同条g下金刚石(zhn)Q液可使SiC试g去除最?向试件施加正?sh)压与超声辅助都能提高材料去除?但不能改变摩擦系?声振动对研抛过E的影响大于?sh)场的作?通过声振动与外加电(sh)场的辅助,?0N压力?以金刚石(zhn)Q液ؓ(f)研抛?获得SiC试g的最高研去除率?5.7mg/h,?0N压力?SiC试g的最高抛光去除率?.21 mg/h?/span>


机 ?哈尔滨工业大?/span>
领 ?金属学及(qing)金属工艺Q无U电(sh)?sh)子学?/span>
关键?_;场仿真Q电(sh)Z真;实验计;摩擦损Ҏ(gu)?/span>

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