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我公司研发制造的半导体光L专用精密气导轨通过韩国LTD亨利特公司的验收

发表于:(x)2019-04-09 来源Q?a href='http://www.uaqtrly.cn/news/121.html'>http://www.uaqtrly.cn/news/121.html

2018q?1月我公司与韩国LTD亨利特公司签订了(jin)为其半导体光L提供气QD的供货合同?/span>


我公司根据客h出的技术要求,提出?jin)详l的设计刉方案,l客户审栔R过后,投入?jin)生产加工。经q?个月的努力,气QD安装在客L(fng)光刻ZQ通过严格的检用后Q各Ҏ(gu)术指标完全达到设计要求,一ơ通过客户验收?/span>


     光刻机(Mask Aligner) 又名Q掩模对准曝光机Q曝光系l,光刻pȝ{。光L思是用光来制作一个图形;然后在硅片表面匀Ӟ然后掩模版上的囑Ş转移光刻胶上的过E将器g或电(sh)路结构(f)时到片上的q程。通俗单的_(d)刉的芯片是用光L来完成的Q没有光LQ设计得再好的芯片都无法生出来Q这个制造芯片的q程是一个光ȝq程?/span>

     光刻机号UC界上加工_ֺ高A器,其制造难度之大,成本相当高。目前荷?/span>ASML?nm工艺的光L是全球先q的。全世界出名的就是荷兰ASMLQ阿斯麦?jng)场占?0%Q镜头来自d国)(j)Q其ơ是日本Nikon和日本Canon三大品牌Z?/span>




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